抢夺euv光刻机，晶圆厂军备竞赛开打 -pg电子平台网站

日前，台积电宣布7纳米强效版及5纳米导入euv微影技术且成功量产入市后，南韩媒体报导，三星向半导体设备大厂艾司摩尔（asml）下订15台euv设备，另外，英特尔、美光、海力士也规划采用euv技术，僧多粥少，全球半导体业掀起抢euv（极紫外光）设备大战。

台积电日前宣布，领先业界导入euv微影技术之7纳米强效版制程已协助客户产品大量进入市场，且2020年上半年量产5纳米也将导入euv制程。根据南韩媒体报导，为达成2030年成为全球第一半导体大厂的目标，并超越晶圆代工龙头台积电，抢占未来二到三年的5g商用化所带来的半导体市场需求，三星已向全球微影曝光设备大厂asml订购15台先进euv设备。

另外，英特尔euv计划的负责人britt turkot年中表示，euv技术已经准备好，并且投入大量的技术开发。记忆体大厂美光、海力士也计划导入euv技术，然而目前全球提供euv设备仅asml一家，业界预估asml一年仅能生产约30台euv设备，在各大厂相继投入之下，形成设备机台一机难求，排队等设备景象。

由于euv极短波长13.5纳米之强力光线的技术，能够更完美地解析先进制程的设计，减少芯片生产步骤及光罩层数，在5g即将进入商转，高速高频特性，对芯片微缩、低功耗要求高，成为延续摩尔定律重要技术。

不过，要驾驭此复杂且昂贵系统来制造大批晶片却是一件难事，三星虽最早宣布7纳米制程导入euv，但先前即传出生产芯片良率及产量不足，台积电表示，为何7纳米一开始未导入euv，正因新技术导入制程需要经历一段学习曲线，台积电在7纳米强效版成功学习经验，未来可顺利导入5纳米制程。

来源：内容综合自「联合晚报」