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产品详情
单片刻蚀设备 - 满足semi s2、semi s8和ce标准；
- 结构合理紧凑，占地面积小；
- 配置ulpa ffu ,带cds供液及回收系统， 自动补液配液；
- chamber内正面2~3个dispenser 及一个fix nozzle, 背面带di nozzle；
- mttr: 小于60min，mtbf: 最小500hour；
- 配置离子发生器及高清摄像头。单片刻蚀设备
- 型号：fy-2000s系列/fy-3000s系列 - 适用于晶圆尺寸：8吋，12吋 - 适用工艺：metal etch - 应用领域：semiconductor |